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  • 带有源漏应变源的GeSnn沟道金属氧化物半导体场效应晶体管
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带有源漏应变源的GeSnn沟道金属氧化物半导体场效应晶体管

专利号:CN201310752768.X

行业:电学

专利类型:发明专利

交易状态: 未成交

专利状态: 暂无

交易方式: 议价

所在地: 暂无

专利简介

本发明提供一种带有源漏应变源的GeSn n沟道MOSFET。该MOSFET(10)的特征在于:源漏应变源(106)生长在源漏极区域(101),GeSn沟道上生长绝缘介电质薄膜(104),绝缘介电质薄膜上覆盖一层?(105)。源漏应变源(106)的晶格常数比源漏极区(101)大,形成对沟道区的应变,该应变在yz平面内为双轴张应变,在x方向为单轴压应变。这种应变有利于GeSn沟道Γ点下移,使间接带隙结构利于转化为直接带隙结构,Γ点参与导电的电子数目大大增加,从而提高MOSFET性能。

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