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一种双光栅位移传感器

专利(申请号):200620163346.4

专利类型:实用新型专利

技术成熟度:研发阶段

所在地:湖北武汉

最近更新:2018-04-10

行业:仪器仪表-光学仪器

交易方式:许可转让

价格:面议

项目简介

本实用新型公开了一种双光栅位移传感器,它包括位移单元、位移导向单元和信号处理电路,以及位于同一光路上的激光器、双光栅单元和光电接收器;双光栅单元由动光栅和定光栅构成,定光栅与动光栅的栅线和栅平面分别平行,动光栅固定在位移单元上,位移单元与位移导向单元组成直线运动副,其运动方向垂直于栅线且平行于栅平面;激光器发出的激光束入射至双光栅单元发生双光栅干涉,光电接收器用于接受产生的干涉条纹,并将产生的电信号传送给信号处理电路。本装置可以获得比单光栅位移传感器更好的干涉条纹特征和条纹电压信号,适合采取更高的细分达到更高的分辨率。只要动光栅移动过程中一致性好,应能实现相当大的位移范围。其测量范围可达20MM,分辨力达到约0.01UM。

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